شناسایی تراشه GAA سه نانومتری سامسونگ در یک کریپتوماینر بیانگر این است که سامسونگ در حال تولید تراشه‌های کوچک با استفاده از نودهای gate-all-around کلاس ۳ نانومتری خود است.
به گزارش تکناک، سامسونگ در حدود یک سال پیش به صورت رسمی تولید حجمی تراشه‌ها را با فناوری فرآیندی SF3E (3 نانومتری، gate-all-around اولیه) خود آغاز کرده است، اما هیچ طراح تراشه‌ای تا به حال تایید نکرده است که از این گره برای محصولات خود استفاده می‌کند. اما TechInsights اخیراً کشف کرده است که کریپتوماینر Whatsminer M56S++ MicroBT دارای مدار مجتمع ویژه برنامه (ASIC) است که در واقع با فرآیند SF3E سامسونگ ساخته شده است.
ASIC های استفاده شده برای استخراج ارز دیجیتال به طور کلی دستگاه‌های کوچک با شمارش ترانزیستور نسبتاً پایین هستند که دارای ساختارهای منطقی تکراری مشابه و تعداد کمی از سلول‌های بیت SRAM هستند. این ویژگی‌ها برای چنین تراشه‌ها و به ویژه ++Whatsminer M56S، بسیار مناسب بوده و به دلیل سادگی تولید، برای پاک‌کننده لوله‌ها در فناوری‌های تولید پیشرفته بسیار مناسب هستند. برای Samsung Foundry، استفاده از فرآیند SF3E برای تراشه‌هایی مانند ASIC های استخراج ارز دیجیتال منطقی است.
متأسفانه، به جز اطلاعات مربوط به قدرت پردازشی و کارایی انرژی ماینر ++Whatsminer M56S شرکت MicroBT، اطلاعات دیگری درباره این دستگاه ASIC موجود نیست. به کسانی که تمایل دارند در مورد این تراشه بیشتر بدانند، توصیه می‌شود یک گزارش مناسب از TechInsights را خریداری کنند.
در حال حاضر، اطلاعات کافی درباره استفاده SF3E سامسونگ در برنامه هایی فراتر از تراشه‌های استخراج ارز دیجیتال موجود نیست. با این حال، سامسونگ به طور رسمی اعلام کرده است که از فرآیند تولید جدید خود با گره 3 نانومتری استفاده می‌کند. سامسونگ در بیانیه مالی خود، اعلام کرده است که در حال توسعه فرآیند نسل دوم با هدف بهبود قابلیت تولید انبوه بیشتر است.
سامسونگ در مقایسه با نسل قبلی، فناوری کلاس 5 نانومتری (SF5، 5LPP)، با نسل جدید SF3E (یا 3GAE) قابلیت کاهش مصرف انرژی تا 45 درصد را حفظ می‌کند و همچنین پیچیدگی و فرکانس را نگه می دارد. همچنین، با شمارش ترانزیستور و استفاده از کلاک‌های مشابه، عملکرد را تا 23 درصد افزایش می‌دهد. SF3E قادر است منطقه‌ای که توسط یک مدار یکپارچه (IC) اشغال می‌شود را تا 16 درصد کاهش دهد. این شرکت اخیراً فرآیند SF3، نسل دوم کلاس 3 نانومتری خود را معرفی کرده است.
