فهرست مطالب
ایلان ماسک بیان کرد که با وجود عقب ماندن گروک ۴.۸ از مدل‌های پیشرفته آنتروپیک، اکوسیستم هوش مصنوعی XAI با سرعت زیادی رشد می‌کند.
به گزارش سرویس هوش مصنوعی تکناک، او اعلام کرده است که پلتفرم هوش مصنوعی گروک متعلق به XAI با سرعت چشمگیری در حال رشد است، هرچند مدل‌های هوش مصنوعی این شرکت همچنان از محصولات پیشرفته آنتروپیک فاصله دارند. ماسک این اظهارات را در گفت‌وگویی با رسانه‌های چینی مطرح کرد و در ادامه مدعی شد که چین می‌تواند ظرف سه سال بر محدودیت‌های موجود در زمینه لیتوگرافی و تولید تراشه غلبه کند.
بیشتر بخوانید: عامل همیشه‌فعال OpenAI با نام «o» لو رفت
عملکرد گروک ۴.۸
گزارش‌ها طی دو هفته گذشته نشان می‌دهند ماسک به صراحت پذیرفته است که گروک هنوز توان رقابت با مدل‌های پیشرو OpenAI و آنتروپیک را ندارد. او برای نمونه در اواسط سپتامبر گفت که گروک ۴.۸، جدیدترین نسخه این مدل که هنوز عرضه نشده است، عملکرد آن را به شکل محسوسی ارتقا خواهد داد، اما همچنان به سطح آسترا از OpenAI و مدل‌های سری Fable آنتروپیک نخواهد رسید. به گفته ماسک، گروک ۴.۸ به ۲.۵ تریلیون پارامتر متکی است.
ماسک در مصاحبه با گروه رسانه‌ای چین عنوان کرد که نسخه ۴.۷ گروک، که در حال حاضر جدیدترین نسخه عمومی این مدل محسوب می‌شود، با وجود عملکرد قابل اتکا و کاربردی، به سطح اوپوس ۵.۵ از آنتروپیک نمی‌رسد. او یکی از دلایل این شکاف را سابقه فعالیت کوتاه‌تر XAI در حوزه هوش مصنوعی دانست. به گفته ماسک، XAI حدود سه سال است که در این حوزه فعالیت می‌کند، در حالی که آنتروپیک سابقه‌ای شش‌ساله دارد.
برای مطالعه بیشتر: ابزار برنامه‌نویسی Claude Code در ۱۰۳ ثانیه بیش از ۴۸ هزار فایل را حذف کرد + تصویر
ماسک در عین حال معتقد است اکوسیستم گسترده‌تر گروک ۴.۸ می‌تواند از مزیت مهندسی‌محور بودن اسپیس‌اکس و تسلا بهره ببرد. او استدلال کرده است که محصولات آنتروپیک بر مهندسی نرم‌افزار متمرکز شده‌اند و این شرکت در ساخت هوش مصنوعی متخصص در مهندسی نرم‌افزار موفق بوده است. از نگاه ماسک، اما هنوز مدل هوش مصنوعی برجسته‌ای برای مهندسی دنیای واقعی وجود ندارد و گروک می‌تواند با بهره‌گیری از داده‌های مهندسی و عملیاتی اسپیس‌اکس و تسلا، به چنین مدلی تبدیل شود.
حتما بخوانید: مدل ChatGPT-6 Astra رمز انیگما را پس از ۸۵ سال شکست
پیشرفت چین در صنعت نیمه‌رسانا
مدیرعامل XAI در بخش دیگری از این مصاحبه به توانایی چین برای توسعه صنعت بومی نیمه‌رسانا پرداخت. ماسک گفت که چین احتمالا سریع‌تر از انتظار بسیاری از کارشناسان خواهد توانست محدودیت‌های توان پردازشی خود را برطرف کند. او برآورد کرد که چین بتواند ظرف دو تا سه سال، با پیشرفت در فناوری‌های لیتوگرافی و تولید تراشه، بر محدودیت‌های محاسباتی موجود غلبه کند.
با وجود این، دیدگاه برخی مدیران صنعت نیمه‌رسانا با ارزیابی ماسک تفاوت دارد. فرانک روموند، مدیرعامل بخش نیمه‌رسانای زایس، شرکتی که اپتیک‌های پیشرفته مورد استفاده در تجهیزات لیتوگرافی تراشه را تولید می‌کند، گفته است که چین ممکن است در توسعه جدیدترین تجهیزات لیتوگرافی ای‌یوای حدود ۱۵ سال از کشورهای غربی عقب باشد.
