پت جلسینگر، مدیرعامل افسانه‌ای اینتل، در گامی نوآورانه به عنوان رئیس هیئت‌مدیره اجرایی به استارت‌آپ xLight پیوسته، که به دنبال تحول در لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) است.
به گزارش تک‌ناک، هدف این استارت‌آپ ساخت قوی‌ترین لیزرهای الکترون آزاد جهان (FEL) برای استفاده در سیستم‌های لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) است.
فناوری EUV یک روش پیشرفته برای تولید مدارهای بسیار ریز در تراشه‌ها است، که از نوری با طول موج ۱۳.۵ نانومتر بهره می‌برد. این روش به ساخت الگوهای مداری با دقتی در حد ۸ نانومتر (برای ابزارهای High-NA) و حدود ۱۳ نانومتر (برای ابزارهای Low-NA) کمک می‌کند. در حال حاضر، تنها شرکت ASML هلند قادر به تولید تجهیزات EUV است و از منابع نوری پیچیده‌ای به نام پلاسما لیزری (LPP) استفاده می‌کند.
استارت‌آپ xLight مدعی است که منبع نوری LPP توسعه‌یافته توسط آنها، چهار برابر قدرتمندتر از پیشرفته‌ترین منابع نوری موجود در بازار است. در حالی که سیستم NXE:3600D شرکت ASML از منبع ۲۵۰ وات و مدل NXE:3800E از منبع ۳۰۰ وات بهره می‌برند، xLight اعلام کرده است که منبع آنها اکنون قدرتی بالاتر از ۱۰۰۰ وات دارد و تا سال ۲۰۲۸ آماده استفاده تجاری خواهد بود و تحولی در لیتوگرافی EUV به حساب می‌آید.
جلسینگر در پستی در لینکدین نوشت:
«در چارچوب نقش جدیدم در Playground Global، به عنوان رئیس هیئت‌مدیره اجرایی به xLight پیوسته‌ام. در کنار نیکلاس کله‌ز و تیم او برای ساخت قدرتمندترین لیزرهای الکترون آزاد با تکیه بر فناوری شتاب‌دهنده ذره‌ای همکاری خواهم کرد.»
این فناوری نه‌تنها می‌تواند دقت و سرعت ساخت تراشه‌ها را افزایش دهد، بلکه طبق ادعای جلسینگر، هزینه ساخت هر ویفر را تا ۵۰ درصد کاهش و هزینه‌های سرمایه‌ای و عملیاتی را تا سه برابر کاهش می‌دهد، که تحولی بزرگ در کارایی تولید نیمه‌هادی‌ها است.
نکته قابل توجه این است که xLight قصد ندارد جایگزین تجهیزات EUV شرکت ASML شود، بلکه هدف آن ارائه منابع نوری LPP سازگار با اسکنرهای ASML است.
به گفته این شرکت، تا سال ۲۰۲۸ این منابع نوری به اسکنرهای ASML متصل و وارد فرایند تولید ویفرها خواهند شد. هرچند هنوز مشخص نیست که این منابع با ابزارهای نسل بعدی High-NA نیز سازگار خواهند بود یا خیر، اما با توجه به استفاده مشابه از منابع LPP در این ابزارها، احتمال آن زیاد است.
یکی از چالش‌های مهم در استفاده از این منابع، تطبیق فیزیکی آنها با طراحی فعلی کارخانه‌های تولید تراشه (fab) است. منابع فعلی LPP در زیر ماشین‌های لیتوگرافی Low-NA نصب می‌شوند، اما در ابزارهای High-NA در همان سطح دستگاه قرار دارند. از این رو، اندازه بزرگ منابع FEL ممکن است استفاده از آنها را محدود به نسل بعدی کارخانه‌ها کند.
همچنین استارت‌آپ xLight معتقد است که فناوری FEL این شرکت علاوه بر صنعت نیمه‌هادی، می‌تواند در حوزه‌هایی مانند: امنیت ملی، زیست‌فناوری، تصویربرداری پزشکی، کنترل زباله‌های فضایی و تحقیقات علمی نیز کاربرد داشته باشد و فرصت درآمدزایی چند میلیارد دلاری در بلندمدت را فراهم کند.
