چین تلاشهای خود را برای توسعه راهحلهای داخلی در زمینههای مختلف، ازجمله صنعت تراشهسازی، افزایش میدهد.
بهگزارش تکناک، چین برنامه مفصلی برای دستیابی به خودکفایی کامل درزمینه تولید تراشه دارد. این امر مستلزم آن است که شرکتهای داخلی ابزارهای لازم برای ساخت ویفر را خودشان بسازند.
اگرچه تولیدکنندگان موفقی در چین برای حکاکی و رسوبگذاری مانند AMEC و Naura Technology وجود دارند، تنها یک تولیدکننده مهم برای ابزارهای لیتوگرافی به نام SMEE وجود دارد.
این موضوع بهطور قطع کافی نیست و همانطورکه South China Morning Post گزارش داده است، بهنظر میرسد Naura Technology نیز قصد دارد به این بازار وارد شود. تامزهاردور مینویسد که شرکت Naura Technology درحالحاضر تولیدکننده موفقی درزمینه ابزارهای حکاکی و رسوب شیمیایی بخار است. این گزارش نشان میدهد که شرکت یادشده تحقیقات اولیهاش را برای توسعه سیستمهای لیتوگرافی آغاز کرده است.
برنامه اختصاصی یادشده در دسامبر ۲۰۲۳ آغاز شد و تا ماه مارس، این شرکت گروه کوچکی از مهندسان را برای بررسی سیستمهای لیتوگرافی گردهم آورده است. SCMP بهنقل از منابع آگاه میگوید که این حوزه فراتر از تمرکز متعارف این شرکت بر حکاکی و رسوب فیلم است.
این تلاشهای تحقیقوتوسعه با نهایت محرمانگی انجام میشود تا از تحریمهای بیشتر ایالات متحده جلوگیری شود؛ زیرا ایالات متحده آنها را تلاشهایی برای دورزدن کنترلهای صادراتی موجود تلقی میکند. نمایندهای از Naura روز دوشنبه به SCMP گفت که اطلاعات گزارششده دقیق نیست؛ اما جزئیات بیشتری ارائه نکرد.
اگرچه تضمینی برای موفقیت ابتکارات تحقیقاتی لیتوگرافی Naura وجود ندارد، این تلاشها نشاندهنده عزم صنعت تراشه چین برای غلبه بر تحریمهای اعمالشده ایالات متحده است. با استناد به مسائل امنیت ملی، این تحریمها بهدنبال محدودکردن پیشرفت چین درزمینه تولید تراشه و هوش مصنوعی و رایانش با عملکرد بالا (HPC) هستند.
طبق گزارش بلومبرگ، دولت ایالات متحده پس از موفقیت هواوی و SMIC در ساخت پردازنده تلفن هوشمند با فناوری فرایند نسل دوم ۷ نانومتری SMIC، در حال بررسی افزودن چندین شرکت نیمههادی چینی مرتبط با هواوی به Entity List خود است. یکی از اهداف بالقوه SiCarrier، تولیدکننده ابزار تراشه با پشتیبانی دولت است که با هواوی همکاری میکند و برای الگوی چندگانه (Quadruple Patterning) ثبت اختراع دریافت کرده است.
دن هاتچیسون، نایبرئیس شرکت تحقیقاتی IC مستقر در ایالات متحده، اعلام کرده است که تحقیقات SAQP چین احتمالاً شرکتهایی مانند Naura و SMEE را درگیر خواهد کرد. SMEE موفقترین تولیدکننده ابزارهای لیتوگرافی در چین است و اسکنری با قابلیت ۲۸ نانومتر طراحی کرده است.
هاتچیسون میگوید که فناوری SiCarrier مراحل لیتوگرافی نوری را با مراحل حکاکی و رسوب جایگزین میکند که وابستگی به ابزارهای لیتوگرافی پیشرفته تولیدشده با ASML را کاهش میدهد. این امر به شرکتهای چینی فرصتی میدهد تا بدون استفاده از جدیدترین ماشینآلات شرکتهای آمریکایی یا اروپایی یا ژاپنی، تراشههایی در نودهای پیشرفته تولید کنند.
