هواوی به سمت تراشه‌های ۲ نانومتری می‌رود

هواوی مسیر تولید تراشه‌های ۲ نانومتری را بدون استفاده از EUV آغاز کرده و با فناوری DUV قصد پیشرفت در رقابت جهانی نیمه‌هادیها را دارد.

به گزارش سرویس کامپیوتر و موبایل تک ناک؛ هواوی در حرکتی که می‌تواند رقابت جهانی در صنعت نیمه‌هادی را دگرگون کند، پتنتی ثبت کرده که مسیر تولید تراشه‌های کلاس ۲ نانومتر را تنها با استفاده از ابزارهای لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV) نشان می‌دهد؛ تجهیزاتی که علی‌رغم محدودیت‌های صادراتی غربی که مانع دسترسی به ماشین‌های EUV از شرکت ASML شده‌اند، همچنان در دسترس هواوی است.

این پتنت که در اصل در سال ۲۰۲۲ ثبت شده اما اخیراً عمومی شد و توسط پژوهشگر باسابقه صنعت نیمه‌هادی، دکتر فردریک چن، مشاهده شد، تکنیک چندالگو‌سازی پیچیده‌ای را توصیف می‌کند که می‌تواند به هواوی و شریک تولیدی‌اش، SMIC، اجازه دهد به فاصله فلزی بسیار دقیق ۲۱ نانومتر دست یابند؛ ابعادی که تراشه‌های تولیدی را در کلاس «۲ نانومتر» قرار می‌دهد، مشابه فرآیندهایی که TSMC و سامسونگ در حال آماده‌سازی آن هستند و عمدتاً به لیتوگرافی EUV وابسته‌اند.

براساس گزارش Gizmochina، قلب روش هواوی، جریان بهینه‌سازی شده Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) است که گفته می‌شود تعداد دفعات تابش DUV مورد نیاز را تنها به چهار بار کاهش می‌دهد، بهبود قابل توجهی نسبت به روش‌های سنتی چندالگو‌سازی که اغلب نیاز به تعداد دفعات بیشتری دارند و پیچیدگی را به شدت افزایش می‌دهند.

با فشار آوردن به زیرساخت‌های موجود DUV تا حد نهایی، این شرکت قصد دارد مستقیماً از تراشه تازه رونمایی‌شده Kirin 9030 (ساخته شده در گره N+3 شرکت SMIC) به نسل آینده تراشه‌های ۲ نانومتری برسد، بدون اینکه از ابزارهای محدود شده EUV استفاده کند.

با این حال، ناظران صنعت همچنان محتاط هستند. حتی اگر امکان فنی در آزمایشگاه اثبات شود، قابلیت تجاری چنین فرآیند DUV با الگوهای پیچیده بسیار مورد تردید است. الگوگذاری چهارگانه در این ابعاد می‌تواند بسیار کاهش‌دهنده بازده، مستعد نقص و بسیار پرهزینه باشد، در مقایسه با تابش تک‌مرحله‌ای EUV که سایر شرکت‌های پیشرو در صنعت برای تراشه‌های زیر ۳ نانومتر به آن مهاجرت کرده‌اند.

اگر دستورالعمل ۲ نانومتری مبتنی بر SAQP هواوی به تولید انبوه برسد، این اقدام به منزله یک نمایش قابل توجه از مقاومت تکنولوژیک در برابر تحریم‌ها خواهد بود. فعلاً، پتنت هم به عنوان اعلام قصد و هم به عنوان یادآوری میزان تلاش چین برای پیشبرد لیتوگرافی قدیمی در مسیر خودکفایی باقی مانده است.