فهرست مطالب
اینتل با تولید و عرضه نخستین پردازندههای تجاری ساختهشده با فناوری لیتوگرافی High NA EUV شرکت ASML، گام بزرگی برای ورود نسل جدید فناوری ساخت تراشه به تولید انبوه برداشت.
بهگزارش سرویس سختافزار تکناک، اینتل به نخستین تولیدکننده تراشه در جهان تبدیل شد که یک محصول تجاری با حجم تولید بالا را با استفاده از فناوری لیتوگرافی EUV با گشودگی عددی بالا (High NA EUV) شرکت ASML تولید و روانه بازار کرده است؛ اتفاقی که نقطه عطفی در مسیر تجاریسازی نسل بعدی فناوریهای ساخت نیمههادی محسوب میشود.
این موفقیت به بخشی از پردازندههای Intel Core Ultra Series 3 با اسم رمز Panther Lake مربوط است که بر پایه گره پردازشی Intel 18A توسعه یافتهاند. اینتل اعلام کرده لایههای مشخصی از فرایند Intel 18A اکنون در کارخانه این شرکت در اورگن روی پلتفرم High NA EUV شرکت ASML بهصورت دوگانه تایید شدهاند و محصولات نهایی با بازدهی مشابه تجهیزات فعلی NXE در اختیار مشتریان قرار میگیرند.
این اعلامیه نشان میدهد High NA EUV دیگر یک فناوری لیتوگرافی تحقیقاتی یا آزمایشی نیست و وارد مرحله تولید واقعی شده است. اینتل و ASML اعلام کردهاند استفاده فعلی از این فناوری به برخی لایههای منتخب تراشه محدود است تا دادههای عملیاتی لازم برای بهینهسازی راهاندازی سیستم، زمان آمادهبهکاری تجهیزات و فرایندهای تولید پیش از گسترش استفاده در نسلهای آینده پردازشی جمعآوری شود.
01
از 01لیتوگرافی High NA EUV چیست؟
High NA EUV بهعنوان نسل تکاملیافته لیتوگرافی EUV، وضوح تصویربرداری بالاتر و کنترل دقیقتر فرایند را ارائه میدهد و امکان تولید ساختارهای کوچکتر و پیچیدهتر روی سطح تراشه را فراهم میکند. این فناوری قرار است نقش مهمی در ساخت نسلهای آینده تراشههای پرقدرت، بهویژه برای کاربردهای هوش مصنوعی و رایانش پیشرفته، ایفا کند. این دستاورد بر پایه همکاری چند دههای اینتل و ASML در توسعه فناوریهای تولید نیمههادی شکل گرفته است.
این مسیر پس از نصب نخستین سیستم تجاری High NA EUV جهان در مرکز تحقیق و توسعه اینتل در هیلزبورو، اورگن، در سال ۲۰۲۴ ادامه یافت. اینتل سپس نخستین شرکت در جهان شد که سیستم نسل دوم ASML TWINSCAN EXE:5200B را نصب و تایید کرد؛ دستگاهی که با توان عملیاتی بالاتر، دقت همترازی بهتر و منبع نوری پیشرفتهتر طراحی شده است.
بیشتر بخوانید: چین از نخستین تراشه سهبعدی هوش مصنوعی خود رونمایی کرد + تصویر
پردازندههای Panther Lake بر اساس Intel 18A تولید میشوند و فناوری High NA EUV در ساخت برخی لایههای کلیدی این تراشهها به کار گرفته شده است. اینتل اعلام کرده این رویکرد امکان کسب تجربه عملی با فناوری جدید را فراهم میکند، بدون آنکه عملکرد تولید در پلتفرمهای فعلی کاهش یابد. کریستوف فوکه، مدیرعامل ASML، این اتفاق را تحول مهمی در صنعت لیتوگرافی نیمههادیها دانسته و گفته است افزایش وضوح و کنترل بهتر فرایند، مسیر تولید تراشههای کوچکتر و متراکمتر را برای فناوریهایی مانند هوش مصنوعی هموار خواهد کرد.
برای مطالعه بیشتر: اپل در فکر خرید غولهای تراشه هوش مصنوعی
به گفته دو شرکت، دادههای حاصل از تولید واقعی High NA EUV به اصلاح تنظیمات تجهیزات، افزایش پایداری عملیاتی و بهبود فرایندهای تولید کمک خواهد کرد تا این فناوری در نسلهای آینده ساخت تراشه با گستردگی بیشتری به کار گرفته شود. اینتل این دستاورد را مرحلهای کلیدی برای استفاده گسترده از High NA EUV در تولید تجاری تراشه میداند؛ فناوریای که قرار است همزمان با حفظ انعطافپذیری تولید، از گرههای پردازشی آینده با تراکم ترانزیستور بالاتر و عملکرد بهتر پشتیبانی کند.
ناگا چاندراسکاران، مدیر Intel Foundry، اعلام کرد این موفقیت حاصل همکاری فنی عمیق میان اینتل و ASML است و نشان میدهد High NA EUV میتواند در مقیاس صنعتی وارد فرایندهای پیشرفته تولید نیمههادی شود. اکنون با ورود Panther Lake به مرحله تولید انبوه با استفاده از High NA EUV، اینتل نخستین شرکتی است که محصولات منطقی تجاری ساختهشده با این فناوری نسل آینده را عرضه میکند؛ دستاوردی که مسیر انتقال لیتوگرافی پیشرفته از آزمایشگاهها به خطوط تولید گسترده تراشه را به نمایش میگذارد.
