ماسک باور دارد با تمرکز روی جداسازی مطلق ویفرها، تولید تراشه ۲ نانومتری بدون اتاق تمیز میتواند سرعت و بهرهوری کارخانهها را افزایش دهد.
به گزارش سرویس سختافزار تکناک، ایلان ماسک، مردی که به شکستن مرزهای ممکن و ناممکن شهرت دارد، این بار بهسراغ یکی از صنایع حساس و دقیق جهان، تولید نیمههادیها، رفته است. او در اظهارنظری جنجالی مدعی شد که مفهوم فعلی اتاق تمیز در کارخانههای تراشهسازی اشتباه درک شده است و او قصد دارد این پارادایم را بهطور کامل تغییر دهد.
ماسک در مصاحبهای با پادکست Moonshots اعلام کرد که تسلا در برنامههای آینده خود، احداث کارخانه تولید تراشه با فناوری پیشرفته ۲ نانومتری را در دستور کار دارد؛ اما نکته عجیب شرایط محیطی این کارخانه است. ماسک گفت:
شرط میبندم که تسلا کارخانهای ۲ نانومتری خواهد داشت و میتوانم در آنجا با خیالی آسوده چیزبرگر بخورم و سیگار برگ بکشم، بدون آنکه آسیبی به تولید برسد.
درحالیکه در صنعت امروز حتی یک تار مو یا ذره غبار میتواند ویفر چندمیلیوندلاری را نابود کند، ماسک بر این باور است که کلید حل معما در «جداسازی مطلق ویفر» (Wafer Isolation) نهفته است. او معتقد است که بهجای استریلکردن کل فضای بزرگ کارخانه، باید خودِ ویفرها را در تمامی مراحل تولید در محفظههایی کاملاً محصور و ایزوله نگه داشت تا هوای محیط اطراف هرچقدر هم که آلوده باشد، با آنها تماس پیدا نکند.
ادعای ماسک درحالی مطرح میشود که کارخانههای پیشرفته تراشهسازی مانند TSMC و سامسونگ برپایه استانداردهای سختگیرانه ISO بنا شدهاند. در اتاق تمیز کلاس ۱ (Class 1)، وجود بیش از ۱۰ ذره با اندازه ۰/۱ میکرومتر در هر متر مکعب هوا مجاز نیست.
کارشناسان معتقدند که حتی اگر سیستم جداسازی ویفر ماسک بینقص عمل کند، دود سیگار و ذرات غذا میلیاردها ذره آلوده تولید میکنند. علاوهبراین، دستگاههای لیتوگرافی بسیار پیشرفته EUV (فرابنفش حدی) آینههای بسیار حساسی دارند که حتی بازدم انسان (حاوی رطوبت و باکتری) میتواند لایههای شیمیایی آنها را تخریب و فرایند تولید را متوقف کند.
این نخستین بار نیست که ماسک به بزرگان این صنعت میتازد. اگرچه او پیشازاین از عملکرد TSMC و سامسونگ تمجید کرده بود، اخیراً از سرعت کُند احداث کارخانهها و کمبود ظرفیت تولید بهشدت انتقاد کرده است. به گفته ماسک، این کندی در زنجیره تأمین، روند توسعه پروژههای هوش مصنوعی او در شرکت xAI را با چالش مواجه کرده است. او معتقد است با حذف تشریفات و استانداردهای غیرضروری در طراحی کارخانه، میتوان سرعت ساخت و بهرهوری را افزایش چشمگیری داد.
به نقل از تامزهاردور، با وجود اعتمادبهنفس همیشگی ماسک، بسیاری از متخصصان صنعت نیمههادی به این اظهارات با دیده تردید مینگرند. تولید در مقیاس ۲ نانومتر بهمعنای کار با ذراتی در ابعاد اتمی است؛ جایی که کوچکترین تداخل شیمیایی یا فیزیکی میتواند کل خط تولید را فلج کند.
برخی تحلیلگران بر این باورند که اظهارات اخیر نشان میدهد که ماسک احتمالاً پیچیدگیهای مهندسی لایهبندی اتمی و لیتوگرافی نوری را دستکم گرفته است. بااینحال، تاریخ نشان داده است که ماسک بارها صنایع تغییرناپذیر مانند خودروسازی و هوافضا را با همین ایدههای بهظاهر مضحک دگرگون کرده است.
