مدیر اجرایی اینتل از شروع کار روی گرههای تولیدی 10A و 7A خبر داد و این شرکت قصد دارد با تکنولوژی High-NA EUV، رقابتی جدی در تولید تراشهها داشته باشد.
به گزارش سرویس سخت افزار تکناک، لیپ-بو تان، مدیر اجرایی اینتل، در هفته جاری تایید کرد که این شرکت کار بر روی فناوریهای ساخت 10A و 7A را آغاز کرده است. این فناوریها جانشین گرههای تولیدی فعلی 18A اینتل و نسل آینده 14A خواهند شد و انتظار میرود در ده سال آینده به بازار عرضه شوند.
هر دو فرآیند 10A و 7A احتمالا قادر به استفاده از ابزارهای لیتوگرافی EUV شرکت ASML با اپتیکهای دارای دیافراگم عددی بالا یا همان High-NA خواهند بود که نخستین بار برای گره 14A به کار گرفته میشود.
پرفروش ترین پاوربانک های بازار
تان در کنفرانس جهانی فناوری، رسانه و ارتباطات جیپی مورگان گفت اکنون کار بر روی نقشه راه 10A و 7A را آغاز کردهام. افراد صرفا به سراغ شما نمیآیند، بلکه به دنبال نقشه راه آینده هستند و ما میخواهیم یک کسب وکار بلندمدت بسازیم.
تان بر یک رویه تجاری قدیمی تاکید کرد که نقشههای راه جاهطلبانه که به درستی اجرا شوند، به اندازه محصولات رقابتی یا فناوریهای ساخت اهمیت دارند، زیرا بسیاری از شرکتها نه فقط محصولات، بلکه نقشههای راه را خریداری میکنند، چرا که ترجیح میدهند سالها با تامینکنندگان خود همکاری کنند. بنابراین اینتل باید دید بلندمدتی از نقشه راه به شرکای خود ارائه دهد و به همین دلیل باید روی فناوریهایی کار کند که سالها تا تجاریسازی فاصله دارند.
در مورد فناوری ساخت 14A اینتل، توسعه آن طبق برنامه پیش میرود؛ کیت طراحی فرآیند یا همان PDK نسخه 0.5 در حال حاضر در دسترس است و نسخه 0.9 آن در ماه اکتبر منتشر خواهد شد.
تان گفت در فصل اول، نسخه 0.5 کیت طراحی فرآیند را اعلام کردیم تا مشتریان بتوانند تراشههای آزمایشی بسازند، بازده ما را بررسی کنند و ببینند آیا میتوانند در گذر زمان محصول خود را طراحی کرده و با ما تولید کنند یا خیر. جام مقدس این مسیر، نسخه 0.9 کیت طراحی فرآیند است. در حال حاضر ما ماه اکتبر را برای ارائه آن به مشتریان خارجی در نظر گرفتهایم. مشتریان داخلی زودتر به آن دسترسی خواهند داشت تا مطمئن شویم که فرآیند را بهخوبی پاکسازی کردهایم، از درستی کار اطمینان حاصل کنیم و بتوانیم با کیفیت خوب محصول را عرضه کنیم.
تان اعلام کرد که چندین مشتری به فناوری 14A ابراز علاقه کردهاند، اگرچه اینتل هنوز نام آنها را فاش نکرده است.
وی در این باره گفت چندین مشتری با ما در خصوص 14A درگیر هستند و در حال تعریف این موضوع هستیم که کدام محصول به چه مکان کارخانهای نیاز دارد و به چه ظرفیتی باید برسیم. من نام مشتری را فاش نمیکنم، اما اگر خود مشتری بخواهد این موضوع را اعلام کند، ما از او حمایت خواهیم کرد.
در خصوص جدول زمانی 14A، اینتل انتظار دارد تولید آزمایشی را در سال 2028 و تولید انبوه را در سال 2029 آغاز کند؛ یعنی زمانی که TSMC نیز تولید انبوه تراشهها بر اساس فناوری ساخت A14 خود را شروع میکند.
سه نکته را باید در اینجا در نظر گرفت. نخست اینکه فناوری A14 شرکت TSMC رقیب مستقیمی برای 14A اینتل نیست، زیرا فناوری اینتل از سیستم تحویل توان از پشت تراشه بهره میبرد و برای پردازندههای رده بالای مراکز داده مناسبتر است. دوم اینکه گفته میشود TSMC تولید تراشهها با استفاده از A14 را در اواخر سال 2028 آغاز میکند و این شرکت معمولا تولید انبوه را با بازده و حجم بسیار بالا شروع میکند.
در مقابل، اینتل تولید انبوه را در کارخانههای توسعهیافته آغاز میکند و مدتی طول میکشد تا به بازده و حجم قابل مقایسه دست یابد. سوم اینکه 14A اینتل یکی از اولین گرههایی خواهد بود که با سیستمهای لیتوگرافی High-NA EUV برای لایههای منتخب سازگار است و نخستین گره تولیدی خواهد بود که قابلیت استفاده از چنین اسکنرهایی را برای تولید انبوه دارد.
طبق گزارش تامز هاردور، ادغام ابزارهای کاملا جدید High-NA EUV به همراه مقاومتهای نوری جدید، ماسکهای نوری جدید، پلیکلهای جدید، ابزارهای اندازهگیری جدید، قوانین طراحی جدید، فرآیندهای لیتوگرافی محاسباتی جدید و بسیاری نوآوریهای دیگر، برای اینتل آسان نخواهد بود. بنابراین این شرکت با ASML و شرکا سخت در تلاش است تا اطمینان حاصل کند که اکوسیستم جدید برای عرضه آماده است.
به طور اتفاقی، کریستوف فوکه، رئیس ASML، گفته است که اولین تراشههای آزمایشی ساخته شده با این ابزارهای جدید در ماههای آینده ظاهر خواهند شد، هرچند او مشخص نکرد که این اتفاق با کدام فروشنده یا در کدام مرکز رخ میدهد.


















